توسط فناوران شهرک علمی و تحقیقاتی اصفهان محقق شد؛
دستیابی به فناوری ایجاد پوششهای نانو کامپوزیت به روش PVD
رییس شهرک علمی و تحقیقاتی اصفهان از دستیابی شرکت دانش بنیان سطح سوین پلاسما، مستقر در این شهرک به فناوری ايجاد پوششهای سطحی سخت با ساختارنانوکامپوزیت به روش رسوب فيزيكی بخار (PVD) خبر داد.
مهدی کشمیری رییس شهرک علمی و تحقیقاتی اصفهان در گفتگو با خبرنگار فناوری‌های نوین باشگاه خبرنگاران گفت: فن‌آوریPVD به طور كلی شامل مجموعه تكنیك‌هایی است كه به وسیله آن‌ها با تبخیر یك یا چند فلز در یك محفظه خلا و تبدیل این بخار فلزی به پلاسمای اكتیو فلزی و تركیب این پلاسما با پلاسمای اكتیو غیر فلزی ناشی از یونیزاسیون همزمان، یك لایه نازك با خواص مطلوب بر روی قطعه كار رسوب داده می‌شود.
وی افزود: بدیهی است خواص این لایه PVD تشكیل شده روی قطعه کار به تركیب آن و تكنیك لایه نشانی بستگی دارد که این شرکت موفق شده با کنترل نسبت عناصر فلزی تبخیر شونده و کنترل شرایط رسوب؛ به فناوری رسوب پوششهای نانوکامپوزیت TiAlN-Si3N4 و TiC-DLC دست یابد.
کشمیری تصریح کرد: در این فناوری از یکی از پیشرفته‌ترین روشهای لایه نشانی با عنوان Cathodic Arc Deposition استفاده می‌شود كه در آن به علت قابلیت دستیابی به درصد بالای یونیزاسیون ذرات و انرژی رسوب بالای ذرات و به علت قابلیت تبخیر کنترل شده چند عنصر به طور همزمان؛ علاوه بر ایجاد انواع پوششهای کریستالی با ساختار مونو بلوک، امکان دست یابی به ساختار نانوکامپوزیت نیز فراهم شده است.
وی تصریح کرد: پوششهای نانوکامپوزیت از اوایل سال 2000 در کشورهای پیشرفته کاربرد وسیعی در کنترل خواص سطحی قطعات کاربردی در صنایع مختلف از جمله صنایع هوافضا و انرژی هستهای داشته اند.
کشمیری در ادامه با بیان اینکه عمده فعالیت‌های این شرکت دانش بنیان بر مكانیزم‌های مهندسی سطح متمركز شده است، اظهار کرد: در این بین در فاز اول، این شركت تنها با تکیه بر دانش بومی، اقدام به راه اندازی راكتور ایجاد پوششهای سطحی سخت به روش رسوب فیزیكی بخار (PVD) با فناوری آرک کاتدی نموده و با انجام فعالیت تحقیق و توسعه متعدد، موفق به ایجاد و ارایه این پوششها در مقیاس صنعتی شده است.
وی خاطرنشان کرد: در ادامه این شركت قصد دارد با طراحی و تجهیز راکتور پوشش دهی، در جهت ایجاد پوششهای با سختار نانو لایه نیز گام بردارد.
انتهای پیام/
