ساخت جدید‌ترین "میکروسکوپ اتمی" فوق پیشرفته
شرکت پارک‌سیستم (Park Systems) یکی از شرکت‌های پیشرو در حوزهٔ ساخت میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) است، این شرکت به تازگی دستگاه جدیدی به نام میکروسکوپ نیروی اتمی پیمایشگر نقص به صورت خودکار (ADR AFM) برای مطالعهٔ ویفرهای ۳۰۰ نانومتری ارائه کرده است.
به گزارش خبرنگار علمی باشگاه خبرنگاران، شرکت پارک سیستم دستگاه AFM جدیدی به بازار عرضه کرده است که می‌تواند نقص‌های ساختاری نانومقیاس ویفر‌ها را به صورت خودکار و بدون نیاز به مواد مرجع شناسایی کند. سرعت کار این دستگاه ۱۰۰۰ درصد بیشتر از دستگاه‌های AFM رایج است.
شرکت پارک‌سیستم (Park Systems) یکی از شرکت‌های پیشرو در حوزهٔ ساخت میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) است. این شرکت به تازگی دستگاه جدیدی به نام میکروسکوپ نیروی اتمی پیمایشگر نقص به صورت خودکار (ADR AFM) برای مطالعهٔ ویفرهای ۳۰۰ نانومتری ارائه کرده است.
عملکرد این دستگاه، در یافتن نقص‌های ویفر‌ها ۱۰۰۰ درصد بیشتر از دستگاه‌های رایج است. این ابزار جدید تولید کنندگان قطعات نیمه‌هادی را قادر می‌سازد تا بدون نیاز به مواد مرجع بتوانند نقص‌های ساختاری موجود در ویفر‌ها را شناسایی کنند. در واقع با وجود این دستگاه نیازی به آزمایشگاه برای کنترل ویفر‌ها نیست. یکی از مزیت‌های این دستگاه آن است که به کمک بهره‌گیری از فناوری True Non-Contact™ Mode طول عمر نوک مورد استفاده در آن بسیار بیشتر از دستگاه‌های دیگر خواهد بود.
سانگ ایل پارک مدیرعامل این شرکت می‌گوید: این دستگاه به صورت ویژه برای استفاده در حوزهٔ نیمه‌هادی طراحی شده است که می‌تواند جایگزین دستگاه‌های AFM رایج شود که در آنها به صورت دستی نقص‌های نانومقیاس ویفر‌ها شناسایی می‌شود. این روش قدیمی بسیار زمان‌بر است و نیز خروجی اندکی دارد. ما از یک روش خودکار برای این کار استفاده کردیم که کاملاً با استانداردهای صنعت تولید هارد دیسک مطابقت دارد. این روش برای بهبود بهره وری و افزایش دقت، مورد استفاده قرار می‌گیرد.
تمام فرآیندهای آن، از یافتن و نقشه برداری نقص تا تمرکز کردن روی نقص‌ها به صورت خودکار انجام می‌گیرد، به طوری که نیازی به مواد مرجع نیست. برخلاف دستگاه SEM که با تابش پرتو الکترونی موجب تخریب و اثرگذاری روی بخشی از نمونه می‌شود، این روش کاملاً بدون آسیب است.
از آنجایی که در این روش از مواد مرجع استفاده نمی‌شود، در نتیجه به کالیبراسیون نوک AFM نیز نیازی نیست؛ بنابراین سرعت پیمایش نمونه‌ها تا ۱۰۰۰ درصد افزایش می‌یابد.
تصویربرداری در این دستگاه در دو مرحله انجام می‌شود: ۱. تصویربرداری بزرگ: که در آن یک تصویر کلی از سطح نمونه گرفته می‌شود. ۲. تصویربرداری کوچک: که در آن روی یک بخش ویژه از نمونه تمرکز می‌شود تا اطلاعات بیشتری با جزئیات کامل از آن نقطه بدست آید. این کار به صورت خودکار انجام می‌گیرد.
انتهای پیام/
